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單動力立式納米砂磨機 LS-Q

CG电子“LS-Q”系列是壹款單動力立式

CG电子“LS-Q”系列是壹款單動力立式納米砂磨機,选取創新的離心式無篩網珠料分離裝置,立式無死角研磨、研磨細度幼,能夠穩定實現50-300nm的超細納米級研磨。該系列設備以“單核單動力”爲主题設計理想,結構簡潔高效,是CG电子智能在高端納米研磨領域的沉要産品之壹。

出料粒徑:50-300nm 

研磨介質:0.03-0.5mm 

粘度: ≤3000cps 

分離系統:離心分離                            

研磨結構:新型渦盤/棒銷式

應用行業:

钛酸鋇、MLCC、電子陶瓷、氧化锆、氧化矽、催化劑、高端電容、半導體、锂電池正負極漿料(磷酸鐵锂)等前沿産業


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出料粒徑:50-300nm 

研磨介質:0.03-0.5mm 

粘度: ≤3000cps 

分離系統:離心分離                            

研磨結構:新型渦盤/棒銷式


· 立式無死角設計,腔體垂直安插,物料自下而上研磨,解除沈積死角,批次壹致性好

· 研磨結構可選新型渦盤或棒銷式,適配分歧物料,靈活匹配

· 可選配永磁直驅電機驅動,運行平穩噪音低,高效節能

· 选取德國技術雙端面機械密封,有效杜絕泄漏,運行穩定靠得住

· 設計適用于大流量生産(連續式或循環式)

· 选取離心式無篩網分離裝置,停車時锆球沈降于分離輪底部,從本原预防起動跑球問題

· 裝置無梗塞、免維護,研磨锆球可長時間使用,無需額表篩珠工序,大幅降低運維成本

· 針對超細介質,选取離心式無篩網珠料分離,有雙沉止回閥,预防介質倒流和梗塞

· 可使用0.03mm以上的锆珠,研磨細度可達50納米以上,普遍滿足高端物料的研磨需要

· 搭載專利強造冷卻系統,有效节造出料溫度,保险物料穩定性


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